獅力昂UV膜分類:
獅力昂UV膜
由于各種電子設(shè)備的小型化,近年來(lái)對(duì)于半導(dǎo)體芯片的需求不斷擴(kuò)大,對(duì)于晶圓切割流程工藝的技術(shù)需求也越來(lái)越大。另外,伴隨技術(shù)創(chuàng)新所帶來(lái)的晶圓超薄化,針對(duì)新出現(xiàn)的晶圓切割流程的因?qū)δ芰σ彩艿疥P(guān)注。
使用注意事項(xiàng):
1、在晶圓切割膠帶粘貼前請(qǐng)先將被粘體表面的油污,塵埃,水分等擦凈。
2、在太陽(yáng)光照射下晶圓切割膠帶的粘著力在短時(shí)間內(nèi)會(huì)下降,所以膠帶保管時(shí),一定要放在遮光袋內(nèi),放置于陰涼之處。
3、晶圓切割膠帶在使用時(shí),請(qǐng)將環(huán)境溫度控制在10℃至30℃。在此溫度環(huán)境外使用時(shí),會(huì)造成接合不良。
4、使用時(shí)請(qǐng)勿用手直接觸摸晶圓切割膠帶的膠面。
5、貼錯(cuò)位置時(shí),請(qǐng)使用全新晶圓切割膠帶,避免膠帶再度使用。

獅力昂晶圓切割膠帶為半導(dǎo)體及基板等各種切割過(guò)程提供支持。
由于該膠帶是透明UV固化聚烯烴膜為基材,使用過(guò)程中可以通過(guò)光的照射解UV處理,減小膠帶的粘著力。故而業(yè)內(nèi)也稱其為:晶圓切割UV膜、基板切割UV膜、晶圓切割UV保護(hù)膜、芯片UV膜。
作為半導(dǎo)體晶圓廠用做晶圓切割或基板切割、背面研磨、減薄制程中所使用保護(hù)表面回路的保護(hù)膜,可在無(wú)塵室內(nèi)使用。
作為半導(dǎo)體晶圓硅片切割用UV膜,作為基板切割、封裝切割UV膜,作為半導(dǎo)體晶圓硅片減薄(削?。?、背面研磨、翻晶膜、熱剝離膜、UV紫外線膜使用。
日本獅力昂UV晶片切割系列膠帶,專為晶片研磨、切割、精細(xì)電子零件承載加工各種材質(zhì)的微小零件而設(shè)計(jì)。涂覆特殊膠層,具有粘著力高,切割時(shí)能以超強(qiáng)的粘著力粘住晶片,即使是小晶片也不會(huì)移位脫落。晶片在研磨、切割過(guò)程中不脫落、不飛散。
加工結(jié)束后,只要照射適量的紫外線就能瞬間降低粘著力。即使是大晶片也可以輕松正確的撿拾而不脫膠,提高撿取晶片時(shí)候的成功率。
由于該膠帶是透明UV固化聚烯烴膜為基材,使用過(guò)程中可以通過(guò)光的照射解UV處理,減小膠帶的粘著力。故而業(yè)內(nèi)也稱其為:晶圓切割UV膜、基板切割UV膜、晶圓切割UV保護(hù)膜、芯片UV膜。
作為半導(dǎo)體晶圓廠用做晶圓切割或基板切割、背面研磨、減薄制程中所使用保護(hù)表面回路的保護(hù)膜,可在無(wú)塵室內(nèi)使用。
作為半導(dǎo)體晶圓硅片切割用UV膜,作為基板切割、封裝切割UV膜,作為半導(dǎo)體晶圓硅片減薄(削?。?、背面研磨、翻晶膜、熱剝離膜、UV紫外線膜使用。
日本獅力昂UV晶片切割系列膠帶,專為晶片研磨、切割、精細(xì)電子零件承載加工各種材質(zhì)的微小零件而設(shè)計(jì)。涂覆特殊膠層,具有粘著力高,切割時(shí)能以超強(qiáng)的粘著力粘住晶片,即使是小晶片也不會(huì)移位脫落。晶片在研磨、切割過(guò)程中不脫落、不飛散。
加工結(jié)束后,只要照射適量的紫外線就能瞬間降低粘著力。即使是大晶片也可以輕松正確的撿拾而不脫膠,提高撿取晶片時(shí)候的成功率。
1、在晶圓切割膠帶粘貼前請(qǐng)先將被粘體表面的油污,塵埃,水分等擦凈。
2、在太陽(yáng)光照射下晶圓切割膠帶的粘著力在短時(shí)間內(nèi)會(huì)下降,所以膠帶保管時(shí),一定要放在遮光袋內(nèi),放置于陰涼之處。
3、晶圓切割膠帶在使用時(shí),請(qǐng)將環(huán)境溫度控制在10℃至30℃。在此溫度環(huán)境外使用時(shí),會(huì)造成接合不良。
4、使用時(shí)請(qǐng)勿用手直接觸摸晶圓切割膠帶的膠面。
5、貼錯(cuò)位置時(shí),請(qǐng)使用全新晶圓切割膠帶,避免膠帶再度使用。